Profile cover photo
Profile photo
Оборудование для вакуумного нанесения покрытий
3 followers -
Изготовление и производство установок вакуумного напыления
Изготовление и производство установок вакуумного напыления

3 followers
About
Posts

Post has attachment

Приоритетом компании "Технологии   и  Предложения" является разработка, изготовление вакуумных установок широкого применения, а также оборудования для полирования поверхности, в том числе, установок электролитно-плазменного полирования.
При создании вакуумных установок и технологий, начиная 1980 года, заложен многолетний опыт, направленный на исследования характеристик вакуумных систем, потоков газовыделения и анализа остаточной среды, конструирование вакуумных установок различного назначения, структурно-фазовые изменения поверхности при формировании тонкопленочных структур, а также на отработку и внедрение технологий у Заказчика. Данные работы были реализованы в тесной связи с ведущими университетами, предприятиями Российской Федерации, Украины, Беларуси.
В результате этих работ разработан и изготовлен ряд моделей вакуумно - технологического оборудования для осаждения покрытий (в том числе алмазоподобных):
    - Вакуумная установка для получения  оптических покрытий, с использованием различных методов, обеспечивающая нанесение покрытий высокой группы прочности,
    - Вакуумная установка для получения  упрочняющих покрытий, с использованием технологических источников плазмы низких  и средних энергий, позволяющая формировать покрытия с высокими эксплуатационными характеристиками,
    - Вакуумная установка для получения  защитно-декоративных покрытий, с применением технологических источников  и источников плазмы, с возможностью нанесения покрытий на различные материалы при пониженных температурах в широком спектре цветов.  
Вакуумные установки, по требованию Заказчика, могут быть модернизированы под необходимую технологию напыления; ионно-плазменным, молекулярным или комбинированными методами.
В связи с тем, что за последний промежуток времени разными предприятиями выпущено достаточное количество оборудования (вакуумных установок), мы предлагаем свои услуги по проведению ремонта, изменение технологической направленности,  имея в виду переход от одного метода к другому, а также дальнейшее сервисное обслуживание.
Add a comment...

Post has attachment
Вакуумные камеры

Научно-производственное унитарное предприятие «Технологии и Предложения» предлагает к изготовлению вакуумные камеры.
Вакуумные камеры могут быть использованы в различных технологических процессах: нанесение покрытий в вакууме, химико-термические процессы, получение новых материалов, испытание механических устройств в условиях космоса и др.
В зависимости от решения технологических задач и экономической эффективности вакуумные камеры изготавливаются с горизонтальной  или вертикальной осью расположения. Для вакуумных технологических линий предлагается секционные шлюзовые вакуумные камеры. При этом,  с целью уменьшения времени загрузки изделий в вакуумную камеру,  предусмотрены различные варианты конструкций технологической оснастки: выдвижного типа, размещение изделий на кассетах и т.д.
Охлаждение камер выполнено лабиринтным способом или с помощь водяной рубашки.
Вакуумные камеры изготавливаются из конструкционных материалов, в том числе из нержавеющих сталей с толщиной стенки до 12 мм  (для камер круглой формы). Вакуумные камеры предусматривают  применение ряда технологических элементов, базирующихся на стенках вакуумной камеры: фланцев, вводов вращения, смотровых окон, датчиков, затворов и др.
Внутренние поверхности вакуумных камер обрабатываются механическим способом до необходимой шероховатости с целью обеспечения заданного минимального потока газовыделения. Для получения минимального потока газовыделения  внутренние стенки вакуумной камеры обезгаживаются трубчатыми электронагревателями изготовленные из нержавеющей стали. После изготовления вакуумная камера проверяется на герметичность гелиевым течеискателем. 
Вакуумные камеры могут быть изготовлены, как по собственным разработкам,  так и по конструкторской документации «Заказчика».
Add a comment...

Post has attachment

Post has attachment

Post has attachment

Post has attachment
Нас интересует вакуумная линия для нанесения зеркальных покрытий.
В продолжение нашего телефонного разговора, направляю Вам информацию по изготовлению вакуумной линии для нанесения зекральных покрытий. Линия может в себя включать от трех до пяти рабочих вакуумных камер. Количество рабочих камер определяется технологией и производительностью линии. В том числе и подбирается необходимое количество магнетронов. В польском варианте в рабочей камере располагается 3 магнетрона. Линия в основном предназначена для нанесения зеркальных покрытий. Для расширения цветовой гаммы целесообразно введение ионных источников, анализатора плазмы и магнетронов с узкой мишенью (ширина 80-85 мм). Ориентировочный срок изготовления 8-12 месяцев в зависимости от комплектации и состава линии.
1. Вакуумная технологическая линия может включать в себя 3-5 камер в зависимости от вида покрытий. 1.1. I - камера загрузки и предварительного нагрева Рр = (5*10-2 - 10-2) мм.рт.ст. 1.2. II - камера нагрева и ионной очистки Рр = (10-3 - 10-4) мм.рт.ст. 1.3. III - камера нанесения 1-го покрытия или подслоя Рр = (5*10-2 - 5*10-3) мм.рт.ст. Количество магнетронов - 2 шт. 1.4. IV - камера нанесения покрытия Рр = (5*10-2 - 5*10-3) мм.рт.ст. Количество магнетронов - 2 шт. В зависимости от технологии камеры III и IV могут быть совмещены. 1.5. V - камера остывания и выгрузки.
2. Размер рабочих камер: длина - 2500 мм, ширина - 1500 мм, высота - 4000 мм
3. Размер мишени: 1400*80
4. Мощность магнетронных источников - 350 кВт
5. Камеры I, V - форвакуумные системы откачки
6. Камеры II, III, IV - высоковакуумные системы откачки
7. Быстрота действия форвакуумных агрегатов - (1000-1500) л/с
8. Количество затворов - 6 шт.
9. Количество высоковакуумных диффузионных и бустерных насосов - по 3 шт.
10. Производительность линии - до 250000 м2/год
11. Количество силовых стоек - 2 шт. Размер стойки питания магнетронов и ионных источников - 1500*600*1900
12. Стойка контроля технологическими параметрами - 1 шт. Размер стойки - 1500*600*1900
13. Стойка управления технологическим процессом - 1 шт. Размер стойки - 1500*1000*1700
14. Площадь, занимаемая линией: 14.1. Механическая часть (камеры с затвором и зоной загрузки) - 15000*2500 14.2. Система откачки - 8000*2000 мм 14.3. Электрооборудование - 6000*1500
Add a comment...

Post has attachment
Необходимо оборудование для нанесения золота на бумагу.
Принципиально возможно нанесение золотой пленки на бумагу. Причем решение данной конкретной проблемы наиболее рациональным является применение магнетронных распылительных систем. Однако для окончательного решения по установке, пожалуйста, конкретизируйте технические характеристики бумаги (толщину, плотность), а также необходимые толщины наносимых покрытий.
Add a comment...

Post has attachment
Интересует вакуумная установка для нанесения оптических покрытий.
Направляю предложения по изготовлению и поставке вакуумной установки V-700 -О для нанесения оптических покрытий.
1.Назначение установки.
Вакуумная установка модели V-700 - О предназначена в основном для нанесения многослойных отрезающих и полосовых оптических фильтров в диапазоне от 3,5 до 12 мкм . Установка работает в автоматическом режиме и также может использоваться для нанесения и других оптических покрытий (просветляющих, интерференционных и др.)
2.Состав установки.
Установка предусматривает применение импортных комплектующих: контроллер откачки, контроллер технологического процесса, контроллер температуры, вакуумметр, блок напуска газа, система кварцевого контроля, спектральная система контроля покрытий, в основном фирм «Simens», “Бальцерс” и т.п.
2.1. Механическая часть
2.1.1. Форвакуумный агрегат НВР25Д/НД150
2.1.2. Высоковакуумный насос Н400/7000
2.1.3 Высоковакуумный затвор пневматического действия
2.1.4 Высоковакуумная ловушка. (Фреоновая или азотная по согласованию с «Заказчиком».)
2.1.5. Камера вакуумная D-700мм, H-780мм
2.1.6. Трубчатые внутрикамерные нагреватели
2.1.7. Технологическая оснастка со сменным куполом
2.1.8. Технологическая оснастка планетарного действия
2.1.9. Резистивные испарители с дозатором напыляемого вещества - 4шт.
2.1.10. Испаритель электронно-лучевой
2.1.11. Ионизатор
2.1.12. Система гидравлическая
2.1.13. Система пневматическая
2.2.1. Стойка управления с входящими блоками
2.2.2. Контроллер откачки «Simens»
2.2.3. Контроллер технологического процесса «Simens»
2.2.4. Контроллер температуры
2.2.5. Вакуумметр «Бальцерс»
2.2.6. Блок напуска газа
2.2.7. Привод технологической оснастки
2.2.8. Стойка питания испарителя
2.2.9. Спектральная система контроля покрытий
2.2.10. Система кварцевого контроля
3.Описание и взаимодействие основных частей установки.
Вакуумная система установки включает в себя форвакуумный агрегат с пластинчато-роторным и двухроторным насосом, высоковакуумный насос, азотную или фреоновую высоковакуумную ловушку, высоковакуумный затвор и клапаны пневматического действия. Производительность форвакуумного агрегата – 150 л/с, предельное давление 1х10-3 мм рт.ст. Производительность высоковакуумного насоса –7000 л/с, предельное давление 5х10-7 мм рт. ст. при работе с азотной ловушкой.
В вакуумной камере размещаются: датчики контроля давлений, температуры, датчики спектрометрической системы, кварцевого контроля, технологическая оснастка, резистивные испарители, электронно-лучевой испаритель, ионизатор, дозатор напыляемого вещества, нагреватели, механизм перевода контрольных образцов с 8-ю сменными свидетелями. Технологическая оснастка планетарного вращения с 3-мя вращающимися дисками диаметром 300мм, на которых размещаются оптические детали. Установка включает в себя две стойки управления и питания. Одна стойка обеспечивает управление установкой, вторая - питание и управление электронно-лучевым испарителем. 
Процесс нанесения покрытий происходит в автоматическом режиме, с выводом спектральной характеристики на монитор компьютера. Монитор компьютера располагается на столике оператора.
Спектрометрическая система имеет два режима работы: для видимой области (350-850)нм и для ИК-области (1000-2500)нм, разрешение в видимой области не хуже 1,5 нм, в ИК-области (3-5)нм.
Контроль толщины покрытий проводится по образцам свидетелям, расположенным в механизме перевода. Количество образцов не менее – 8 шт.
Дозатор управляет автоматической подачей испаряемых материалов, тем самым обеспечивает стехиометрический состав оптических покрытий.
Нагреватели обеспечивают нагрев изделий до температуры – 3200С.
Время одного цикла для нанесения фильтров в зависимости от технологического процесса составляет 8 часов.
Блок питания Эли (стойка питания и управления) состоит из трех блоков:
- силового
- блока накала
- блока технологического, который изготовлен на современной базе и решает функции в автоматическом режиме.
Блок питания ЭЛИ обеспечивает в автоматическом режиме следующие функции:
- нанесение необходимой толщины покрытий с учетом выбранного материала и установленной скорости испарения.
- регулирование тока накала.
- выход на рабочий режим.
- стабилизацию ускоряющего напряжения.
- стабилизацию скорости нанесения покрытий.
- вращение тиглей с определением каждой позиции.
- остановка процесса нанесения покрытий.
Для отображения информации применен логический контроллер, который задает необходимые параметры, управляет режимами работы.
Дополнительно предусмотрен блок с системой автоматического сканирования электронного луча SWEEP. Система SWEEP позволяет сканирование луча по заданной программе и траектории, тем самым обеспечивает равномерную выработку испаряемого материала.
Кварцевый контроль.
Система кварцевого контроля включает в себя измерительною головку фирмы «MAXTEX» (США) и блок питания информации. Измерительная головка водоохлаждаемая, количество позиций – согласуется с «Заказчиком».
Add a comment...

Необходима вакуумная установка ВУ-2МБС. Сообщите возможность поставки.
Для установления определенной ясности в использовании вакуумной установки ВУ-2МБС на рынке упрочняющих технологий изложу взгляды на эту проблему.
Ситуация заключается в том, что электро-дуговое испарение относится к способу с «жесткими» технологическими параметрами и имеет свои ограничения. Действительно, не только установка ВУ-2МБС, но и практически все остальные модели Юнион, ННВ.6.И2, Ти-Голд, требуют существенного совершенствования, прежде всего по следующим причинам:
1. Расширение технологических возможностей, нанесение покрытий на детали с низкой температурой отпуска.
2. Уменьшение, а в некоторых случаях исключение капельной фазы.
3. Обеспечение воспроизводимости физико-механических свойств покрытий от цикла к циклу.
4. Возможность формирования покрытий сложного фазового состава, композиционных ,твердых растворов.
Для решения данной проблемы существуют следующие пути:
1. Применение ионных источников газа с прямоугольной формой плазменного пучка, что позволяет значительно снизить рабочую температуру процесса и формировать покрытия при пониженных температурах (100-150о)С.
2. Применить несбалансированные магнетроны, планарные электро-дуговые испарители (одно-двух катодные) с прямоугольной формой катода, что обеспечивает широкое регулирование плотности тока в катодном пятне, снизить капельную фазу и осаждать покрытия на широкую номенклатуру изделий, в том числе и на мелкоразмерный инструмент и штамповую оснастку.
3. Введение анализаторов плазменного потока позволяет управлять технологическим процессом путем изменения и регулирования спектральной составляющей, что формирует покрытия стехиометрического состава с воспроизводимыми от цикла к циклу свойствами.
4. Конструкция вакуумной камеры, расположение и сочетание технологических источников обеспечивает получение покрытий сложного фазового состава, в том числе и твердых растворов, которые в 2-3 раза выше по своим физико-механическим свойствам нитридов TiN, ZrN и др.
Основные узлы установки , рабочие характеристики.
1. Высоковакуумная система откачки с форваккумным агрегатом производительностью 150л/c, и высоковакуумным насосом с быстротой действия 7000 л/c.
2. Рабочая камера с прямоугольными фланцами определенного расположения. Размеры камеры: D-700мм, H-750мм, количество прямоугольных фланцев – 4шт.
3. Технологическая оснастка с приводом и вводом вращения. Вращение плавное, регулируемое до 30 об/мин.
4. Два планарных электро-дуговых испарителя:
4.1.Размер рабочей зоны –высота –550-600мм, ширина-300мм практически по всему объему камеры.
4.2.Количество катодов – (1-3) --- (1-2) – очередная и совместная работа.
4.3.Размер катода до (200х250) мм
4.4.Поджиг – электронный.
5. Два ионных источника
5.1.Раз мер рабочей зоны – (550-150)мм
5.2.Ток ионного пучка --(0-1)А - регулируемый
5.3.Анодное напряжение –(200-2500)В - регулируемое
5.4.Потребляемая мощность—3,0 КВТ
6. Два несбалансированных магнетрона
6.1.Размер мишени – (525-100) мм
6.2.Размер рабочей зоны – (550-150)мм
6.3.Мощность блока –10 КВТ
7. Прибор спектрального управления – 1шт.
7.1.Количество каналов контроля – (1-4)
7.2.Фильтры оптические: нитриды, карбиды,оксиды и т.д.
8. Блок питания подложки –1 шт.
8.1.Напряжение регулируемое-(0-250)В
8.2.Ток - до 10 А- регулируемый
9. Блок питания магнетрона - 2шт.
9.1.Независимые блоки
9.2.Мощность - 10 КВТ
10. Блок питания ионного источника
10.1Встраивается в стойку управления
10.2.Ускоряющее напряжение выпрямленное, регулируемое до 2500В
10.3.Ток регулируемый до 1А
11. Блок питания электро-дуговых испарителей
11.1Ток рабочий до 300А – регулируемый
11.2.Напряжение холостого хода – 70В
11.3.Два независимых блока питания
12. Блок высокого напряжения
12.1.Напряжение в режиме очистки – 1000В
12.2.Ток - до 10 А
13. Блок гидравлики самостоятельный узел
14. Стойка управления
В стойке управления размещены все блоки по контролю и управлению давления, спектра плазмы и т.д.
Как следует из примененных технологических источников производительность установки превышает аналоги до 3х раз. Рабочая зона
ВУ-2МБС составляет 700-750 см2, а предлагаемой модели 2000см2, т.е. рабочая зона составляет 0,8-0,9 высоты рабочей камеры, а ширина 250-300 мм.
Реализуемые технологии:
1.Конструкции покрытий: однослойные , многослойные, композиционные, твердые растворы.
2.Тип покрытий: нитриды, карбиды, карбонитриды, окислы, оксикарбонитриды и др. тугоплавких металлов (Ti, Zr, Cr,V,Hy,W и т.д.)
3. Напыляемые изделия- подложки: инструмент из быстрорежущих сталей Р18 и т.д., штамповый инструмент У8А и др., детали машин, медицинский инструмент, детали легкой промышленности, ткацкой (челноки, фильеры), керамики, стекло, металлы для декоративной отделки и др., мелкоразмерный инструмент для сверления печатных плат, инструмент деревообработки и другие подложки из сталей, стекла , керамики и т.п.
Add a comment...

Post has attachment
Пожалуйста, сообщите отличительные особенности модернизированной вакуумной установки ВУ-2МБС.
Модернизированная вакуумная установка по сравнению с установкой ВУ-2МБС включает следующие дополнительные узлы:
1. Два планарных электродуговых источника с размерами катода 250х200мм.
2. Два планарных ионных источника с энергией ионов до 2000 ЭВ и размерами ионного пучка на срезе анода 250х60мм.
3. Программируемый прибор спектрального контроля и управления технологическим газом РРС-453.
4. Прибор контроля температуры 10-ти канальный с возможностью замера температуры касания термопары.
Применение дополнительных узлов существенно расширяет технологические возможности, производительность установки и решает вопросы воспроизводимости формируемых покрытий.
Планарные дуговые источники не только значительно снижают канальную фазу, но и расширяют рабочую зону осаждения до 500 мм.
Наличие ионных источников позволяет снизить температуру процесса, наносить покрытия на детали с низкой температурой отпуска и мелкоразмерные изделия, что практически недостижимо обычным электродуговым способом.
Прибор спектрального управления и контроля независимо от режимов работы оборудования поддерживает концентрацию плазмы на заданном уровне, тем самым обеспечивая воспризводимость формируемых покрытий от цикла к циклу.
Таким образом модернизированная вакуумная установка по сравнению с обычной ВУ-2МБС имеет ряд преимуществ:
1. Эффективная площадь осаждения покрытий больше, чем в два раза.
2. Значительно меньше капельная фаза.
3. Возможность проведения качественной очистки ионами газа, особенно это важным является для мелкоразмерных изделий и изделий с температурой отпуска 200-250оС
4. Возможность нанесения покрытий при пониженных температурах.
5. Возможность проведения сопутствующей ионной обработки (ионного ассистирования), тем самым формировать покрытия с высокими физико-механическими свойствами.
6. Возможность нанесения покрытий с воспроизводимыми механическими свойствами.
Add a comment...
Wait while more posts are being loaded